氧分压对电子束蒸发ZrO2薄膜微结构的影响

• 作者: 朱世富 胡建平 胡江川 赵北君 陈松林 马平
• 来源期刊: 四川大学学报(自然科学版)
• 学科: 物理学
• 关键词: 电子束蒸发 ZrO2薄膜 氧分压 XRD 表面粗糙度 激光损伤
• 年，卷（期）: 2004,（4）
• 页码范围: 774-777
• 页数: 4页
• 分类号: O484.5
• 字数: 2172字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0490-6756.2004.04.020

摘要

用XRD衍射技术分析了基片转动和充氧条件对ZrO2薄膜组成结构的影响,发现在相同低氧压条件下(P≤1.1×10-2Pa)基片转动能够改变薄膜的组成结构,即薄膜发生从四方相到单斜相的转变;随着氧压进一步升高,ZrO2薄膜将由多晶态逐渐转变为无定形结构.同时发现基片转动能够降低充氧条件对表面粗糙度和晶粒大小的影响.激光阈值损伤测量表明,氧压条件影响着ZrO2薄膜的抗激光损伤能力,且多晶结构的激光损伤阈值高于无定形结构.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	朱世富	四川大学材料科学系	151	840	14.0	20.0
2	赵北君	四川大学材料科学系	132	744	14.0	19.0
3	胡建平		22	276	10.0	16.0
4	马平		54	355	11.0	15.0
5	陈松林	四川大学材料科学系	7	37	3.0	6.0
6	胡江川		11	42	3.0	6.0