纳米多孔SiO2薄膜的结构控制与强化

• 作者: 吴广明 周斌 沈军 陈炎
• 来源期刊: 同济大学学报(自然科学版)
• 学科: 物理学
• 关键词: 溶胶-凝胶技术 SiO2,薄膜 纳米多孔结构
• 年，卷（期）: 2004,（6）
• 所属期刊栏目: 物理学
• 页码范围: 836-840
• 页数: 5页
• 分类号: O484.4
• 字数: 3561字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-374X.2004.06.030

摘要

报道了采用溶胶-凝胶技术,结合碱/酸两步催化和氨与水蒸气混合气体热处理技术,成功地制备了高孔隙率、耐磨和附着力好的纳米多孔SiO2薄膜.使用透射电镜(TEM)、扫描电镜(SEM)、原子力显微镜、椭偏仪等方法测量和分析了薄膜的特性.实验结果表明:通过控制实验条件实现了SiO2纳米结构的人工控制,形成的薄膜折射率在1.18～1.41之间连续可调;采用碱/酸两步催化法明显提高了薄膜的力学性能,混合气体中的热处理进一步改善了薄膜的力学性能;薄膜增强归因于SiO2颗粒间更多的Si-O-Si化学键连接.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	周斌	同济大学波耳固体物理研究所	140	1582	22.0	31.0
2	沈军	同济大学波耳固体物理研究所	199	2285	26.0	36.0
3	吴广明	同济大学波耳固体物理研究所	118	1607	22.0	32.0