射频磁控溅射法制备SnO2:Sb透明导电薄膜的光电性能研究

• 作者: 张君 赵青南 陈甲林
• 来源期刊: 液晶与显示
• 学科: 物理学
• 关键词: 射频磁控溅射 透明导电薄膜 光电性能 氧气分压
• 年，卷（期）: 2005,（5）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 406-411
• 页数: 6页
• 分类号: O484.4
• 字数: 4421字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-2780.2005.05.010

摘要

采用射频磁控溅射法在载波片玻璃衬底上制备了锑掺杂二氧化锡(SnO2:Sb)透明导电薄膜.利用霍耳效应实验、紫外可见光光谱仪、n(折射率)k(消光系数)d(薄膜厚度)光谱仪对该导电薄膜的光电性能进行了测试.讨论了氧气分压对样品光电性能的影响,增加氧气分压,薄膜的厚度减小、吸收边和截止波长蓝移,光学带隙增大,并且氧气分压对薄膜电阻率、载流子浓度和霍耳迁移率的影响不是线性的,而是存在一个最佳值.当氧气分压为0.10 Pa时,薄膜的光电性能最佳,此时膜厚为399 nm,可见光平均透过率为70 %,电阻率为2.5×10-3 Ω·cm,载流子浓度为1.2×1021 cm-3,载流子霍耳迁移率为2.04 cm2·V-1·s-1,其光电特性已达到了TFT-LCD透明电极的要求.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈甲林		1	23	1.0	1.0
2	赵青南		1	23	1.0	1.0
3	张君		1	23	1.0	1.0