纳米光刻技术

• 来源期刊: 光学精密机械
• 学科: 经济
• 关键词: 纳米光刻技术 计算机芯片 纽约州 联合开发 集成电路 美元 制造商 IBM 公司
• 年，卷（期）: gxjmjx_2005,（4）
• 页码范围: 38
• 页数: 1页
• 分类号: F426.7

摘要

著名的四大计算机芯片制造商将与纽约州合作，在今后5年内出资5亿美元，联合开发下一代计算机芯片光刻技术，研究线宽只有人头发丝10万分之一的集成电路。IBM、超微（AMD）、美光（Mi鄄cron）及德国英飞凌四家公司与纽约州日前宣布了这一计划。纽约州计划出资1．8亿美元，上述四家公司各出5000万美元，另外几家提供原料和设备的公司出资2亿美元。