薄膜应力研究

• 作者: 范正修 范瑞瑛 邵建达 邵淑英
• 来源期刊: 激光与光电子学进展
• 关键词: 薄膜 应力
• 年，卷（期）: 2005,（1）
• 所属期刊栏目: 光电子器件与技术
• 页码范围: 22-27
• 页数: 6页
• 字数: 6686字
• 语种: 中文

摘要

综述了近几年薄膜应力研究的重点及新进展,探讨了薄膜应力研究的发展方向.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邵建达	中国科学院上海光学精密机械研究所光学薄膜技术研究与发展中心	212	2131	21.0	29.0
2	范瑞瑛	中国科学院上海光学精密机械研究所光学薄膜技术研究与发展中心	15	377	9.0	15.0
3	范正修	中国科学院上海光学精密机械研究所光学薄膜技术研究与发展中心	203	2312	23.0	32.0
4	邵淑英	中国科学院上海光学精密机械研究所光学薄膜技术研究与发展中心	18	309	9.0	17.0