乙烯掺杂APCVD法沉积非晶硅薄膜的光学特性

• 作者: 刘涌 宋晨路 朱建强 詹宝华 韩高荣
• 来源期刊: 材料科学与工程学报
• 学科: 工学
• 关键词: APCVD 非晶硅薄膜 红外光谱 紫外-可见光光谱 光学带隙
• 年，卷（期）: 2005,（6）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 843-845
• 页数: 3页
• 分类号: TB43
• 字数: 2063字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-2812.2005.06.016

摘要

通过硅烷、乙烯和氮气的混合气体在620下采用常压化学气相沉积(APCVD)法沉积了非晶硅薄膜,讨论了乙烯/硅烷的体积比(R=VC2H4/VsiH4)对薄膜的光学性质的影响.用Raman光谱、红外光谱和紫外-可见光光谱仪对薄膜进行表征.结果表明通过乙烯掺杂制备的薄膜样品中存在着Si-C键,在R值变化的开始阶段薄膜的光学带隙随着R值增大而增大,在R=0.1时达到最大值,然后随着R值的增大而减小.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	韩高荣	浙江大学材料科学与工程系	187	1971	24.0	35.0
2	宋晨路	浙江大学材料科学与工程系	37	372	10.0	18.0
3	刘涌	浙江大学材料科学与工程系	18	59	5.0	6.0
4	朱建强	浙江大学材料科学与工程系	2	4	2.0	2.0
5	詹宝华	浙江大学材料科学与工程系	2	4	2.0	2.0