制备参数对磁控溅射CoSi2薄膜织构的影响

• 作者: 吴建生 姜传海 常继 程凡雄
• 来源期刊: 理化检验-物理分册
• 学科: 物理学
• 关键词: 织构 CoSi2薄膜 X射线衍射 磁控溅射
• 年，卷（期）: 2005,（4）
• 所属期刊栏目: 试验与研究
• 页码范围: 163-165,190
• 页数: 4页
• 分类号: O484
• 字数: 2301字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-4012.2005.04.001

摘要

采用射频磁控溅射法溅射CoSi2合金靶材制备CoSi2薄膜,研究了制备参数对薄膜织构的影响.结果表明,CoSi2薄膜中存在(111)或(220)织构.织构的形成受溅射参数的影响.溅射功率越大,溅射气压越低,(111)织构越强烈.当基底温度增加时,织构经历了先增强后减弱的过程.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴建生	上海交通大学材料科学与工程学院高温材料及高温测试教育部重点实验室	141	1402	19.0	30.0
2	姜传海	上海交通大学材料科学与工程学院高温材料及高温测试教育部重点实验室	46	243	9.0	13.0
3	程凡雄	上海交通大学材料科学与工程学院高温材料及高温测试教育部重点实验室	4	4	1.0	1.0
4	常继	上海交通大学材料科学与工程学院高温材料及高温测试教育部重点实验室	1	0	0.0	0.0