潘宁放电溅射沉积纳米级AlN薄膜的性质

• 作者: 冯贤平 施芸城 李慧玉 杨平 闫永辉
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 潘宁放电 溅射 AlN薄膜
• 年，卷（期）: 2006,（2）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 32-35
• 页数: 4页
• 分类号: TB43
• 字数: 2470字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-0322.2006.02.009

摘要

设计并制造了新的潘宁型等离子体源实验装置,分析了等离子体的发射光谱和产生AlN的动力学机理.在室温条件下,纯氮气的工作环境中用潘宁放电离子源溅射的方法,在Si(100)衬底上制备了纳米级的光滑平整AlN薄膜.本文用扫描电镜(SEM),原子力显微镜(ATM),红外吸收光谱(FTIR)和拉曼光谱(Raman shift)等测试分析技术用来研究了薄膜的微结构特征.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	闫永辉		10	108	5.0	10.0
2	施芸城		21	92	6.0	9.0
3	杨平		6	37	4.0	6.0
4	李慧玉		2	12	1.0	2.0