真空期刊
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真空

Vacuum
曾用名: 真空技术报导

CACSTPCD

影响因子 1.1128
本杂志是中国真空界主要杂志之一。自1994年真空杂志转换经营机制以来,由我国真空企业界实力雄厚的厂家与杂志社联办成立董事会,并由真空学术界著名学者组成编委会。社会效益与经济效益与日俱增,在国内真空界享有盛誉。自1989年公开发行以来,被美国、英国、德国、日本、意大利、韩国以及港澳地区越来越多的海外学者所关注。
主办单位:
中国机械工业集团公司沈阳真空技术研究所
期刊荣誉:
中国期刊网、光盘国家工程中心用刊  工程技术类核心期刊 
ISSN:
1002-0322
CN:
21-1174/TB
出版周期:
双月刊
邮编:
110042
地址:
辽宁省沈阳市万柳塘路2号
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  • 作者: 姜燮昌
    刊名: 真空
    发表期刊: 2005年1期
    页码:  1-5
    摘要: 采用直流反应溅射技术可以制备出具有光催化作用的TiO2薄膜.这种TiO2薄膜经紫外光辐照后,可以分解有机物以及降低水和TiO2薄膜表面之间的接触角.然而,普通的直流反应溅射在制备介质膜时,普...
  • 作者: 张杨 徐成海 王新
    刊名: 真空
    发表期刊: 2005年1期
    页码:  6-10
    摘要: 通过分析真空铸造在造型、充型、凝固过程中产生的现象,讨论了真空密封造型、实型真空铸造、真空吸铸、真空低压铸造、真空差压铸造等技术的现状,针对国内外发展现状提出今后真空熔模吸铸的研究与发展的方...
  • 作者: 巴德纯 汪保卫 沈辉 王贺权 闻立时
    刊名: 真空
    发表期刊: 2005年1期
    页码:  11-14
    摘要: 应用DC(直流)反应磁控溅射设备在硅基底上制备TiO2薄膜,在固定的电源功率下,氩气流量为42.6 sccm,氧流量为15 sccm,溅射时间为30 min的条件下,通过控制靶基距改变TiO...
  • 作者: 周友苏 张立珊
    刊名: 真空
    发表期刊: 2005年1期
    页码:  15-17
    摘要: 在真空条件下利用真空电弧源在不同基底材料上镀制了TiO2薄膜.对影响镀膜过程和膜层质量的氧气工作压强和偏压等因素进行了研究.X射线衍射结构分析结果显示TiO2薄膜主要以锐钛矿相为主及少量的金...
  • 作者: 姚宁 张兵临 张利伟 杨仕娥 樊志琴 鲁占灵
    刊名: 真空
    发表期刊: 2005年1期
    页码:  18-21
    摘要: 采用直流反应磁控溅射的方法,溅射高纯钛靶在ITO石英衬底上制备了TiO2薄膜.用XRD、Raman光谱、AFM和紫外-可见光分光光度计分别测试了TiO2薄膜的结构、表面形貌和紫外-可见光透射...
  • 作者: 叶长江 袁永 黎碧莲
    刊名: 真空
    发表期刊: 2005年1期
    页码:  22-24
    摘要: 采用电弧离子镀法在普通玻璃表面制备透明的TiO2薄膜,AFM、XRD分析TiO2薄膜表面形貌和结构,结果表明经过500℃退火后TiO2薄膜主要为锐钛矿结构.对纳米TiO2薄膜进行了亲水性研究...
  • 作者: 赵毅红 陈荣发
    刊名: 真空
    发表期刊: 2005年1期
    页码:  25-27
    摘要: 运用电磁场理论对金属波导膜厚测量的原理进行了详细分析,并且研制了一台膜厚测量仪,理论和实践表明:可以通过测量复合金属波导膜系励磁电流的脉冲波形来控制薄膜的生长厚度.
  • 作者: 吴永刚 戚同非 林小燕 王勇 田国勋
    刊名: 真空
    发表期刊: 2005年1期
    页码:  28-32
    摘要: 运用递推矩阵法计算了光学多层膜的可见光透射率,描绘出可见光频谱的透射率曲线.确定了透射率曲线与CIE标准色度学系统三刺激值的转化关系,进而通过标准三刺激值与计算机RGB三刺激值的对应转化,在...
  • 作者: 刘卫华 夏志林 张幼陵 葛春桥 薛亦渝
    刊名: 真空
    发表期刊: 2005年1期
    页码:  33-35
    摘要: 实际生产出的薄膜的光学特性和理论计算得到的光学特性常常存在差别,这些差别的来源有多种,诸如理论模型假设时忽略的一些因素;薄膜久置引起的薄膜结构改变或吸潮、污染;制造过程中的制造误差(光学监控...
  • 作者: 胡立群 胡纯栋 贺会权 龚建华
    刊名: 真空
    发表期刊: 2005年1期
    页码:  39-42
    摘要: 介绍了中性束注入系统热测靶的测量原理,提出了热测靶的设计方案,并对测量误差进行了分析,介绍了中性束注入系统束线上束流功率和功率密度分布的测量方法,对中性束注入系统也作了简单介绍.
  • 作者: M.J.Thwaites 方立武 王晓伟
    刊名: 真空
    发表期刊: 2005年1期
    页码:  43-45
    摘要: 详细描述一种等离子体高效溅射系统及应用工艺.此种崭新的溅射技术结合了蒸发镀的高效及溅射镀的高性能特点,特别在多元合金以及磁性薄膜的制备,具有其他手段无可比拟的优点.
  • 作者: 张军辉 张喜平 杨晓天 蒙峻 衡昌胜
    刊名: 真空
    发表期刊: 2005年1期
    页码:  46-49
    摘要: 从结构设计和真空获得两方面介绍了HIRFL-CSR磁元件真空室样机的研制过程,给出了力学计算和实验结果.样机达到了10-10 Pa的超高真空度,研制结果表明HIRFL-CSR工程大型超高真空...
  • 作者: 伍智 曾敏 杨卫英 邹桂娟
    刊名: 真空
    发表期刊: 2005年1期
    页码:  50-52
    摘要: 陶瓷二次金属化镍层烧结后起泡是影响产品质量和合格率的一个主要因素,本文针对陶瓷的一次金属化和二次金属化工艺,经XPS、XRF、SEM等方法分析,得出:陶瓷的二次金属化起泡与其沉积层的基材和沉...
  • 作者: Henri MICHEL Thierry CZERWIEC 何欢 董闯 邹建新 陈宝清
    刊名: 真空
    发表期刊: 2005年1期
    页码:  53-56
    摘要: 在对Ni-基超合金Inconel 690进行等离子体辅助渗氮处理过程中观察到了一个特殊的现象,即氮在该合金中的扩散呈各向异性,不同取向的晶粒其渗氮层厚度是不同的,并且氮在取向接近(100)的...
  • 作者: 李国玉
    刊名: 真空
    发表期刊: 2005年1期
    页码:  57-58
    摘要: 简要介绍磁流体密封件结构设计的相关问题.
  • 作者: 骆定祚
    刊名: 真空
    发表期刊: 2005年1期
    页码:  59-61
    摘要: 本文为<实用真空技术>一书的核心章节,作者认真总结了工人师傅的丰富维修经验,理论与实践相结合,对扩散泵的维修技术作了全面、系统、深入细致的论述,对读者有参考价值.
  • 作者: 张以忱
    刊名: 真空
    发表期刊: 2005年1期
    页码:  62-64
    摘要:
  • 作者: 崔伟 张宇宁 张晓兵 杨杨 雷威 马晓燕
    刊名: 真空
    发表期刊: 2005年2期
    页码:  1-7
    摘要: 从彩色PDP基本结构和工作原理入手,分析目前彩色PDP的优缺点,围绕着如何改善性能,降低成本,介绍了目前世界各大公司和研究机构在改进PDP的结构、材料、驱动电路等方面所作的工作和相应的理论研...
  • 作者: 戴永年 王平艳 蒋世新 钟洪权
    刊名: 真空
    发表期刊: 2005年2期
    页码:  8-11
    摘要: 对真空下用碳热还原及低价氯化物分解法从含铝原料炼铝的试验进行了研究,重点考察了反应温度、煤的用量、反应时间对试验的影响;最后得到在100 Pa的真空下,最佳的反应温度为1370℃左右,最佳煤...
  • 作者: 徐彩玲 苏中兴 邱家稳 郭宁
    刊名: 真空
    发表期刊: 2005年2期
    页码:  12-14
    摘要: 用化学方法配合适当的真空退火工艺制备了具有较好电、光相变性能的VO2粉末.分析了经过不同真空退火工艺处理所得试样的XRD、XPS谱图、相变性能,得到了真空退火温度与VO2粉末相变性能之间的关...
  • 作者: 刘阳兴 吴剑 富宏军 王亮 马俊
    刊名: 真空
    发表期刊: 2005年2期
    页码:  15-19
    摘要: 介绍了多室连续式真空炉的性能、结构、特点以及在真空钎焊、粉末冶金材料真空烧结、金属材料真空热处理、电子器件与不锈钢保温容器的真空排气与封接等领域的应用及现状.
  • 作者: 施政
    刊名: 真空
    发表期刊: 2005年2期
    页码:  20-22
    摘要: 直拉单晶炉生长过程中炉膛内真空度的高稳定性对硅单晶正常生长起到很重要的作用.本文分析了引起直拉单晶炉生长过程中炉膛内真空度不稳定的因素,通过改进单晶炉真空系统和充气系统,确保硅单晶在生长过程...
  • 作者: 陆卫忠 鲍德忠
    刊名: 真空
    发表期刊: 2005年2期
    页码:  23-26
    摘要: 冷凝器是真空排气系统中一个很重要的组成部分,本文主要分析了宝钢2RH真空系统喷淋式冷凝器的结构特点和工作原理;运用数学建模的方法,建立基于液滴受力分析的数学模型,以及在生产现场使用中的一些不...
  • 作者: 宋巧丽 张家良 张鹏云 王德真
    刊名: 真空
    发表期刊: 2005年2期
    页码:  27-30
    摘要: 采用射频等离子体增强的气相沉积法,以硅烷和乙烯为原料,在常温下成功的合成了碳化硅薄膜.对于该条件下合成的碳化硅薄膜的结构特征,采用SEM、TEM、XRD、IR等手段进行了分析;分析结果表明我...
  • 作者: 刘柯钊 张友寿 武胜 殷雪峰 谢志强
    刊名: 真空
    发表期刊: 2005年2期
    页码:  31-33
    摘要: 应用激光技术对铀上铌镀层进行表面合金化处理,并应用能谱和X射线衍射仪对处理层中的铌元素分布和相结构进行了分析.结果表明,铌元素沿处理层深度方向有一定的浓度梯度,距离处理层表面越近,铌含量越高...
  • 作者: 何玉定 李健 胡社军 谢光荣
    刊名: 真空
    发表期刊: 2005年2期
    页码:  34-37
    摘要: 用射频磁控溅射法制备了调制周期分别为5 nm、10 nm、15 nm、20 nm的NiFeCo/Ag非连续多层膜.用俄歇能谱仪测量薄膜的成分,用原子力显微镜观测NiFeCo膜层及Ag膜层的表...
  • 作者: 沈玫 纪建超 颜悦
    刊名: 真空
    发表期刊: 2005年2期
    页码:  38-40
    摘要: 介绍了用真空磁控溅射方法沉积的Au-氧化物透明导电复合膜,研究了沉积复合膜过程中,真空室温度、电压以及退火处理等因素对复合膜电性能的影响,研究表明复合膜的电阻呈正温度系数,电阻低值对应于适宜...
  • 作者: 宋守森 戴银明 王晖 王秋良 赵保志 雷沅忠 黄晖
    刊名: 真空
    发表期刊: 2005年2期
    页码:  41-44
    摘要: 成功研制了6T NbTi 传导冷却超导磁体系统,制冷机为二级GM-制冷机.磁体冷却到4 K需用74 h左右,目前磁体系统已分别完成了115 A(6T),45 h和95 A,264 h的无间断...
  • 作者: 孙立臣 汪力
    刊名: 真空
    发表期刊: 2005年2期
    页码:  45-48
    摘要: 介绍了我国某小型空间环境模拟无油检漏试验设备,并就无油真空系统、检漏系统灵敏度和反应时间等问题作了详细介绍,大量试验证明该无油检漏系统的设计是合理和正确的.
  • 作者: 周利娟
    刊名: 真空
    发表期刊: 2005年2期
    页码:  49-52
    摘要: 高频屏蔽波纹管是BEPCII真空系统的预研项目之一.本文介绍两种类型的高频屏蔽波纹管,比较了各自的优越性,最后进行了严格的样机发热实验,以期能更好满足高频屏蔽波纹管的运行需要.

真空基本信息

刊名 真空 主编 陆国柱
曾用名 真空技术报导
主办单位 中国机械工业集团公司沈阳真空技术研究所  主管单位 机械工业部期刊管理办公室 中国机械工业集团公司沈阳真空技术研究所
出版周期 双月刊 语种
chi
ISSN 1002-0322 CN 21-1174/TB
邮编 110042 电子邮箱 zkzk@chinajournal.net.cn
电话 024-24134406 网址 www.vacjour.cm
地址 辽宁省沈阳市万柳塘路2号

真空评价信息

期刊荣誉
1. 中国期刊网、光盘国家工程中心用刊
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