基于湿法刻蚀的MEMS压印模版制作

• 作者: 丁玉成 卢秉恒 段玉岗 王权岱
• 来源期刊: 微细加工技术
• 学科: 工学
• 关键词: MEMS 压印模版 玻璃 湿法刻蚀
• 年，卷（期）: 2006,（1）
• 所属期刊栏目: 微细加工技术
• 页码范围: 36-40,60
• 页数: 6页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 3035字
• 语种: 中文

摘要

介绍了一种基于玻璃湿法刻蚀低成本的MEMS压印模版制作工艺,工艺中以单层光刻胶作为刻蚀掩模,重点研究了改善刻蚀图形几何轮廓和提高表面质量的方法.在对钻蚀形成机理进行分析的基础上,通过对比偶联剂不同涂敷方式及不同蒸镀时间对刻蚀结果的影响,优化了硅烷偶联剂的涂敷工艺,使钻蚀率降低到0.6,图形几何形状得到改善.分析了刻蚀生成物的溶解度,采用HCl作为刻蚀液添加剂对刻蚀产生的难溶物进行分解,提高了表面质量.对刻蚀表面缺陷的形成原因进行了分析,采用厚胶层工艺消除了表面缺陷.利用该工艺制作了图形特征尺寸为100 μm的MEMS压印模版,并进行了初步压印实验,得到了很高的复型精度.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	卢秉恒	西安交通大学机械制造系统工程国家重点实验室	387	5973	36.0	56.0
2	丁玉成	西安交通大学机械制造系统工程国家重点实验室	128	1941	23.0	39.0
3	段玉岗	西安交通大学机械制造系统工程国家重点实验室	54	368	13.0	16.0
4	王权岱	西安交通大学机械制造系统工程国家重点实验室	12	83	6.0	9.0