光刻技术及其应用的状况和未来发展

• 作者: 刘文辉
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 光刻技术 纳米制造 光子光源 极小微粒源 特理接触
• 年，卷（期）: 2006,（3）
• 所属期刊栏目: 光刻技术
• 页码范围: 36-42
• 页数: 7页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 4134字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-4507.2006.03.011

摘要

光刻技术及其在产业中的开发应用一直是业界人们关注的焦点之一,概述了目前几种具有潜力的光刻机技术及其应用的状况,同时通过对相关光刻的技术性和经济性比较,简述了其未来的发展.