65 nm工艺及其设备

• 作者: 翁寿松
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 65nm工艺 设备 芯片
• 年，卷（期）: 2006,（2）
• 所属期刊栏目: 光刻技术与设备
• 页码范围: 18-20,48
• 页数: 4页
• 分类号: TP271
• 字数: 3333字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-4507.2006.02.005

摘要

介绍了65 nm工艺及其设备.它包括光刻工艺与193 nm Arf/浸入式光刻机、超浅结工艺与中电流/高电流离子注入机、铜互连工艺与PVD/ALD设备、CMP工艺与低应力CMP设备和清洗工艺与无损伤清洗设备等.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	翁寿松		95	534	13.0	18.0