磁控溅射不同厚度银膜的微结构及其光学常数

• 作者: 孙喜莲 洪瑞金 范正修 邵建达 齐红基
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 直流溅射镀膜 银膜 微结构 光学常数
• 年，卷（期）: 2006,（9）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质:电子结构、电学、磁学和光学性质
• 页码范围: 4923-4927
• 页数: 5页
• 分类号: O4
• 字数: 4366字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2006.09.089

摘要

用直流溅射法在室温K9玻璃基底上制备了8.2nm-107.2nm范围内不同厚度的Ag薄膜,并用X射线衍射及计算机辅助优化程序对薄膜的微结构和光学常数进行了测试分析. 结构分析表明:制备的Ag薄膜均呈多晶状态,晶体结构均呈面心立方;随着膜厚的增加,薄膜的平均晶粒尺寸逐渐增大,晶面间距逐渐减小. 计算机辅助优化编程计算的薄膜光学常数分析表明:在波长550nm处,当膜厚小于17.5nm时,随着膜厚的增加,折射率n快速减小,消光系数k则快速增大;当膜厚大于17.5nm时,n和k逐渐趋于稳定.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邵建达	光学薄膜技术研发中心中国科学院上海精密机械研究所	10	77	5.0	8.0
2	范正修	光学薄膜技术研发中心中国科学院上海精密机械研究所	8	77	5.0	8.0
3	齐红基	光学薄膜技术研发中心中国科学院上海精密机械研究所	2	41	2.0	2.0
4	孙喜莲	光学薄膜技术研发中心中国科学院上海精密机械研究所	1	36	1.0	1.0
5	洪瑞金	光学薄膜技术研发中心中国科学院上海精密机械研究所	1	36	1.0	1.0