对柱状多晶硅薄膜的制备研究

• 作者: 卢景霄 张丽伟 赵新蕖 郜小勇 陈永生 靳瑞敏
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 工学
• 关键词: SEM RTP 柱晶 多晶硅薄膜
• 年，卷（期）: 2006,（5）
• 页码范围: 1159-1162
• 页数: 4页
• 分类号: TN304.05
• 字数: 2811字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-985X.2006.05.052

摘要

在多晶硅薄膜(Poly-Si)生长理论的基础上,用等离子体化学气相沉积(RF-PECVD)系统,配合快速光热退火装置(RTP),在玻璃衬底和石英衬底上制备了柱状结构的多晶硅薄膜.借助于扫描电子显微镜(SEM)等测试手段,对薄膜的表面形貌和断面形貌进行了分析.结果发现:(1)柱晶的形成对薄膜的厚度有一定要求,而且薄膜越厚,柱晶直径越容易长得更大.本实验中,薄膜厚度达到2.5μm左右时,柱晶直径达到了1.5μm以上;(2)再结晶过程是从靠近光源的薄膜表面开始进而到薄膜内部的.再次说明RTP中再结晶的发生,与光和物质的相互作用密切相关.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张丽伟	郑州大学教育部材料物理重点实验室	17	90	7.0	9.0
5	郜小勇	郑州大学教育部材料物理重点实验室	52	301	10.0	14.0
6	陈永生	郑州大学教育部材料物理重点实验室	67	484	11.0	19.0
7	卢景霄	郑州大学教育部材料物理重点实验室	100	570	12.0	17.0
8	靳瑞敏	郑州大学教育部材料物理重点实验室	13	55	4.0	7.0
9	赵新蕖		12	29	3.0	5.0