环境气氛对射频溅射镀膜的影响

• 作者: 刘正堂 孙金池 宋文燕 崔虎 李阳平
• 来源期刊: 机械科学与技术
• 学科: 物理学
• 关键词: 射频溅射 等离子体 鞘层
• 年，卷（期）: 2006,（5）
• 页码范围: 608-611
• 页数: 4页
• 分类号: O484
• 字数: 3519字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1003-8728.2006.05.027

摘要

综合考虑宏观条件对射频溅射镀膜过程的影响,采用等离子鞘层理论、理想气体理论、蒙特卡罗法,模拟在真空气压、气体流量、电压、温度等等参数综合作用后离子的能量、方向、分布等.相应实验验证结果与模拟结果较为一致,因此,可以认为目前的结论足以作为进一步模拟的条件.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李阳平	西北工业大学材料学院	25	201	8.0	13.0
2	刘正堂	西北工业大学材料学院	120	749	14.0	21.0
3	孙金池	西北工业大学材料学院	6	30	3.0	5.0
4	崔虎	西北工业大学材料学院	4	23	3.0	4.0
5	宋文燕	西北工业大学材料学院	5	46	4.0	5.0