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铝互连线的电迁移问题及超深亚微米技术下的挑战
铝互连线的电迁移问题及超深亚微米技术下的挑战
作者:
吴瑾
张文杰
易万兵
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
电迁移
铝互连
微结构
摘要:
铝互连线的电迁移问题历来是微电子产业的研究热点,其面临的电迁移可靠性挑战也是芯片制造业最持久和最重要的挑战之一.从20世纪90年代开始,超深亚微米(特征尺寸≤0.18 μm)铝互连技术面临了更加复杂的电迁移可靠性问题.从电迁移理论出发,分析概括了铝互连电迁移问题的研究方法,总结了上世纪至今关于铝互连电迁移问题的主要经验;最后结合已知的结论和目前芯片制造业现状,分析了当前超深亚微米铝互连线电迁移可靠性挑战的原因和表现形式,提出了解决这些问题的总方向.
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内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数
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(/年)
文献信息
篇名
铝互连线的电迁移问题及超深亚微米技术下的挑战
来源期刊
物理学报
学科
物理学
关键词
电迁移
铝互连
微结构
年,卷(期)
2006,(10)
所属期刊栏目
凝聚物质:结构、热学和力学性质
研究方向
页码范围
5424-5434
页数
11页
分类号
O4
字数
10613字
语种
中文
DOI
10.3321/j.issn:1000-3290.2006.10.074
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
张文杰
中国科学院上海微系统与信息技术研究所
16
141
7.0
11.0
10
易万兵
中国科学院上海微系统与信息技术研究所
5
38
2.0
5.0
19
吴瑾
2
36
1.0
2.0
传播情况
被引次数趋势
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(23)
2006(1)
参考文献(0)
二级参考文献(0)
引证文献(1)
二级引证文献(0)
2006(1)
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二级引证文献(0)
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二级引证文献(0)
2008(2)
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2019(4)
引证文献(0)
二级引证文献(4)
2020(3)
引证文献(1)
二级引证文献(2)
研究主题发展历程
节点文献
电迁移
铝互连
微结构
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
物理学报
主办单位:
中国物理学会
中国科学院物理研究所
出版周期:
半月刊
ISSN:
1000-3290
CN:
11-1958/O4
开本:
大16开
出版地:
北京603信箱
邮发代号:
2-425
创刊时间:
1933
语种:
chi
出版文献量(篇)
23474
总下载数(次)
35
总被引数(次)
174683
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