磁控溅射法制备CeO2-TiO2紫外吸收薄膜

• 作者: 倪佳苗 周学东 杨晟 肜建娜 赵修建 龚勇宏
• 来源期刊: 武汉理工大学学报
• 学科: 物理学
• 关键词: CeO2-TiO2薄膜 UV吸收 磁控溅射
• 年，卷（期）: 2006,（1）
• 所属期刊栏目: 材料科学与工程
• 页码范围: 7-9,12
• 页数: 4页
• 分类号: O484
• 字数: 2462字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1671-4431.2006.01.003

摘要

采用射频磁控溅射在玻璃基片上沉积具有紫外吸收CeO2-TiO2混和薄膜.通过制备一系列不同物质的量浓度比的n(CeO2):n(TiO2)靶材(1.0:0,0.90:0.10,0.80:0.20,0.70:0.30, 0.60:0.40,0.50:0.50,0.40:0.60,0.30:0.70,0.20:0.80,0.10:0.90,0:1.0), 研究其紫外吸收性能最佳的物质的量浓度比.TiO2加入CeO2后,改变CeO2的结晶状态并提高UV吸收.采用Raman和XPS表征薄膜的特性,物质的量浓度比值在n(CeO2):n(TiO2)=0.5:0.5,0.6:0.4时,薄膜为非晶态,并具有高的紫外吸收(98%)和可见光透过率(70%～80%); XPS分析表明薄膜存在Ce4+,Ce3+和Ti4+.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	周学东	武汉理工大学硅酸盐工程中心教育部重点实验室	31	188	8.0	12.0
2	赵修建	武汉理工大学硅酸盐工程中心教育部重点实验室	220	2735	25.0	43.0
3	倪佳苗	武汉理工大学硅酸盐工程中心教育部重点实验室	6	40	4.0	6.0
4	杨晟	武汉理工大学硅酸盐工程中心教育部重点实验室	9	160	6.0	9.0
5	龚勇宏	武汉理工大学硅酸盐工程中心教育部重点实验室	3	15	3.0	3.0
6	肜建娜	武汉理工大学硅酸盐工程中心教育部重点实验室	3	40	2.0	3.0