高深宽比SU-8微结构的简易加工技术

• 作者: 刘东元 吕春华 方肇伦 殷学锋
• 来源期刊: 浙江大学学报（工学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 微制备 SU-8 高深宽比 微结构
• 年，卷（期）: 2006,（8）
• 所属期刊栏目: 无线电电子学、电信技术
• 页码范围: 1289-1292
• 页数: 4页
• 分类号: TN405
• 字数: 2197字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3785/j.issn.1008-973X.2006.08.001

摘要

为了提高微驱动器的性能,提出了一种在氧化铟锡(ITO)玻璃上加工高深宽比SU-8微结构的方法.在导电玻璃的ITO层上涂覆一薄层AZ-4620正光胶,用常规的接触式曝光法,将光刻掩模上的二维图形转移到AZ-4620光胶层上,显影后利用ITO玻璃的导电性,在AZ-4620光胶曝光处电沉积镍,原掩膜图形可保真地转移到ITO玻璃表面的镍镀层上,使紫外光透过ITO玻璃基底进行反面曝光,从而保证了光刻掩模与SU-8光胶层间的完全接触,消除了厚光胶层表面不平在曝光时的散射和基片材料的反射影响,成功制备了深宽比为16、侧壁垂直度为89.5°的微结构.本方法使用设备简单,加工成本低.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	殷学锋	浙江大学化学系	38	605	14.0	24.0
2	方肇伦	浙江大学化学系	29	547	11.0	23.0
3	刘东元	浙江大学化学系	2	11	1.0	2.0
4	吕春华	浙江大学化学系	2	16	2.0	2.0