磁控溅射氮分压对Nb-Si-N薄膜结构和性能的影响

• 作者: 宋忠孝 徐可为 王剑锋 范多旺
• 来源期刊: 稀有金属材料与工程
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 Nb-Si-N 氮分压 结构
• 年，卷（期）: 2006,（6）
• 所属期刊栏目: 材料工艺
• 页码范围: 978-981
• 页数: 4页
• 分类号: TG146.4
• 字数: 2164字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1002-185X.2006.06.032

摘要

用反应磁控溅射法在不同的氮分压下沉积了Nb-Si-N薄膜.结果表明:Nb-Si-N膜的成分、结构和性能随氮分压的改变而不同.随氮分压的增加,Nb-Si-N膜的Nb/Si比和表面粗糙度减小;薄膜的电阻值和微硬度增加.Nb-Si-N膜的结构为纳米晶NbN与类似Si3N4非晶相组成的纳米复合结构,且随着氮分压的增加,Nb-Si-N膜的非晶倾向增强,晶粒尺寸减小.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	徐可为	西安交通大学金属材料强度国家重点实验室	238	3333	30.0	44.0
2	宋忠孝	西安交通大学电子物理与器件教育部重点实验室	30	143	8.0	11.0
3	王剑锋	西安交通大学金属材料强度国家重点实验室	3	6	2.0	2.0