磁控溅射膜厚均匀性模拟软件的设计

• 作者: 徐新 胡松利 赵选民
• 来源期刊: 计算机应用与软件
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 膜厚均匀性 计算机模拟
• 年，卷（期）: 2006,（10）
• 所属期刊栏目: 应用技术与研究
• 页码范围: 85-87
• 分类号: TP3
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-386X.2006.10.033

摘要

由于薄膜厚度均匀性是影响薄膜性能的一个重要因素,根据平面磁控溅射的实际情况,提出了一个较为全面的磁控溅射薄膜厚度分布模型.该模型综合考虑靶面溅射电流分布、溅射产额与入射角之间的关系、靶面出射粒子的角分布、空间角以及粒子迁移过程中的碰撞等.对建立的模型进行了计算机模拟,并设计出了膜厚分布模拟软件.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赵选民	西北工业大学理学院	42	294	9.0	15.0
2	徐新	西北工业大学理学院	4	18	3.0	4.0
3	胡松利	西北工业大学理学院	1	0	0.0	0.0