六硼化镧薄膜的制备及发射特性的研究

• 作者: 张强 朱炳金 陈泽祥
• 来源期刊: 真空电子技术
• 学科: 物理学
• 关键词: LaB6薄膜 真空烧结 电泳 热发射 逸出功
• 年，卷（期）: 2007,（5）
• 所属期刊栏目: 工艺与应用
• 页码范围: 44-47
• 页数: 4页
• 分类号: O484
• 字数: 2661字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-8935.2007.05.012

摘要

用阴极电泳的方法在Re衬底上制备了LaB6薄膜,用扫描电镜、X射线光电子能谱对样品的表面状况、化学组分进行了分析.经过真空烧结,采用真空热电子发射法测出了LaB6薄膜的逸出功.使用Richardson直线法测量薄膜的逸出功为2.56 eV,具有良好的电子发射性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈泽祥	电子科技大学光电信息学院	32	217	9.0	13.0
2	张强	电子科技大学光电信息学院	9	48	4.0	6.0
3	朱炳金	电子科技大学光电信息学院	5	44	4.0	5.0