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摘要:
新型磁控溅射电阻镀膜机是在同一台设备上能制作出中、低和高阻值金属膜电阻的专用设备.文章主要是对它的结构及设计核心部分进行了论述,并将研制中的一些数据和关键部分予以阐明.
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文献信息
篇名 新型电阻(金属膜)专用镀膜机的研制
来源期刊 真空 学科 工学
关键词 金属膜 电阻 专用镀膜机
年,卷(期) 2007,(4) 所属期刊栏目 薄膜
研究方向 页码范围 50-51
页数 2页 分类号 TB43
字数 1424字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1002-0322.2007.04.012
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 付洪川 2 0 0.0 0.0
2 马铁明 1 0 0.0 0.0
3 闫正宇 1 0 0.0 0.0
4 董丽娜 1 0 0.0 0.0
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2007(0)
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研究主题发展历程
节点文献
金属膜
电阻
专用镀膜机
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
真空
双月刊
1002-0322
21-1174/TB
大16开
辽宁省沈阳市万柳塘路2号
8-30
1964
chi
出版文献量(篇)
2692
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3
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