软干涉光刻技术

• 来源期刊: 光学精密机械
• 学科: 工学
• 关键词: 光刻技术 干涉光刻 美国国家科学基金会 纳米材料 美国科学家 制作技术 制造技术 等离子体
• 年，卷（期）: 2007,（3）
• 页码范围: 11
• 页数: 1页
• 分类号: TN305.7

摘要

美国科学家在纳米制作技术领域获得重大进展，通过将干涉光刻和软光刻技术结合在一起，推出称为软干涉光刻技术（SIL）的新型制造技术，可以用来扩展纳米生产工艺以大批量制造等离子体超材料和器件。与现有的技术相比，软干涉光刻技术具有许多明显的优势。作为一种大规模制作纳米材料的创新和廉价方法，利用它制成的新颖的先进材料，为开发和应用特殊与突发光学特性铺平了道路。该研究项目由美国西北大学奥多姆教授领导，美国国家科学基金会资助，相关研究成果作为封面文章发表在《自然·纳米》期刊上。