脉冲激光沉积法制备的Ge(S90Se10)2硫系薄膜中的光致漂白效应研究

• 作者: 周学东 潘瑞琨 肖秀娣 董国平 赵修建 陶海征
• 来源期刊: 材料科学与工程学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 激光脉冲沉积法(PLD) 光致漂白 Ge(S90Se10)2薄膜 能隙
• 年，卷（期）: 2007,（1）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 18-21
• 页数: 4页
• 分类号: O484.4+1
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-2812.2007.01.005

摘要

运用激光脉冲沉积法(PLd)制备了Ge(S90Se10)2薄膜,通过运用紫外汞灯对制备的薄膜进行不同时间的辐照,我们确定了达到饱和状态所需要的辐照时间(90分钟).当薄膜处于饱和状态时,巨大的光致漂白效应被观察到了(△E=0.36ev).此外,在本文中,我们也对光致漂白效应的机理进行了阐述,一种新型的光电子材料被发现了.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	周学东	武汉理工大学硅酸盐材料工程教育部重点实验室	31	188	8.0	12.0
2	陶海征	武汉理工大学硅酸盐材料工程教育部重点实验室	36	245	8.0	15.0
3	赵修建	武汉理工大学硅酸盐材料工程教育部重点实验室	220	2735	25.0	43.0
4	董国平	武汉理工大学硅酸盐材料工程教育部重点实验室	3	5	2.0	2.0
5	潘瑞琨	武汉理工大学硅酸盐材料工程教育部重点实验室	2	3	1.0	1.0
6	肖秀娣	武汉理工大学硅酸盐材料工程教育部重点实验室	1	3	1.0	1.0