掺溴非晶碳梯度薄膜的制备与分析

• 作者: 冯建鸿 吴卫东 唐永建 杨向东 程新路 马兆侠
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 化学
• 关键词: 低压等离子体 化学气相沉积 掺溴梯度薄膜 XPS能谱 非晶碳
• 年，卷（期）: 2007,（1）
• 所属期刊栏目: ICF与激光等离子体
• 页码范围: 83-85
• 页数: 3页
• 分类号: O646
• 字数: 2050字
• 语种: 中文

摘要

采用低压等离子增强化学气相沉积法用溴乙烷、氢气制备了掺溴的非晶碳梯度薄膜.通过样品的XPS能谱分析研究了薄膜沉积速率与氢气流量、溴元素原子分数与溴乙烷流量以及溴元素原子分数与刻蚀时间之间的关系,得出了溴乙烷流量、刻蚀时间对薄膜的主要键态含量、C元素sp2/sp3键态杂化比和薄膜硬度的影响.结果表明:薄膜沉积速率随氢气流量的增加而线性减小,溴元素含量随溴乙烷流量的增加先增加后降低,刻蚀时间越长,溴乙烷流量越小,薄膜越硬.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	唐永建	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	281	2334	24.0	31.0
2	吴卫东	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	140	1087	18.0	26.0
4	程新路	四川大学原子分子物理研究所	174	597	12.0	14.0
7	冯建鸿	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	11	29	3.0	4.0
8	马兆侠	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	3	7	2.0	2.0