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高隔离度X波段RF MEMS电容式并联开关
高隔离度X波段RF MEMS电容式并联开关
作者:
姚军
张理
王大甲
钟洪声
饶青
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
射频微机电系统
开关
隔离度
X波段
衬底刻槽
摘要:
研究了一种新型的、应用于X波段的高隔离度RF MEMS电容式并联开关结构.相比于普通的并联结构,该开关通过共面波导(CPW)传输线与地平面之间的衬底刻槽结构将隔离度提高了7 dB,关态时在13.5 GHz谐振频率处的隔离度为-54.6 dB,执行电压为26 V.弹簧梁结构开关的执行电压下降为14 V,在11 GHz处其隔离度为-42.8 dB.通过两个并联开关级联与开关间的高阻传输线构成的π型调谐开关电路,在11.5 GHZ处的隔离度为-81.6 dB.
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SPDT开关
宽带
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高隔离度
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内容分析
文献信息
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相关学者/机构
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内容分析
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相关文献总数
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(/年)
文献信息
篇名
高隔离度X波段RF MEMS电容式并联开关
来源期刊
微纳电子技术
学科
工学
关键词
射频微机电系统
开关
隔离度
X波段
衬底刻槽
年,卷(期)
2008,(6)
所属期刊栏目
MEMS器件与技术
研究方向
页码范围
342-346
页数
5页
分类号
TH703|TM534.1|TM564.1
字数
2498字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1671-4776.2008.06.007
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
钟洪声
50
343
9.0
17.0
2
姚军
中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室
32
355
11.0
18.0
3
王大甲
中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室
2
12
1.0
2.0
4
饶青
3
16
2.0
3.0
5
张理
中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室
1
1
1.0
1.0
传播情况
被引次数趋势
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2017(1)
引证文献(1)
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研究主题发展历程
节点文献
射频微机电系统
开关
隔离度
X波段
衬底刻槽
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
微纳电子技术
主办单位:
中国电子科技集团公司第十三研究所
出版周期:
月刊
ISSN:
1671-4776
CN:
13-1314/TN
开本:
大16开
出版地:
石家庄市179信箱46分箱
邮发代号:
18-60
创刊时间:
1964
语种:
chi
出版文献量(篇)
3266
总下载数(次)
22
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