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摘要:
介绍了利用反射式高能电子衍射(RHEED)方法在自组装InAs量子点制备过程中进行结构分析的理论研究与实验工作的最新进展.从反射式高能电子衍射在InAs量子点临界转变状态测定、量子点表面取向、量子点应力分布测定、量子点形核长大动力学过程研究等方面的应用,可以看出RHEED在InAs量子点形成过程中对多种结构特征的原位分析具有突出优势.反射式高能电子衍射仪作为分子束外延系统中的标准配置,已成为一种对InAs量子点微观结构进行分析的简易而理想的分析测试工具.随着反射式高能电子衍射以及衍射理论的进一步发展,必将促进InAs量子点结构的精确表征水平的提高,进而实现更加理想结构的InAs量子点的制备及其应用.
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文献信息
篇名 分子束外延InAs量子点的RHEED实时原位分析
来源期刊 微纳电子技术 学科 工学
关键词 分子束外延 InAs量子点 反射式高能电子衍射 实时原位 微结构分析
年,卷(期) 2008,(8) 所属期刊栏目 显微、测量、微细加工技术与设备
研究方向 页码范围 470-475,479
页数 7页 分类号 TN405.984|O471.1
字数 4492字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1671-4776.2008.08.009
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研究主题发展历程
节点文献
分子束外延
InAs量子点
反射式高能电子衍射
实时原位
微结构分析
研究起点
研究来源
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微纳电子技术
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1671-4776
13-1314/TN
大16开
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18-60
1964
chi
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