化学机械抛光材料分子去除机理的研究

• 作者: 王永光 赵永武
• 来源期刊: 科学通报
• 关键词: 化学机械抛光 分子量级 机理
• 年，卷（期）: 2008,（3）
• 所属期刊栏目: 论文
• 页码范围: 359-363
• 页数: 5页
• 语种: 中文

摘要

考虑磨粒黏着力、芯片表面缺陷和表面氧化薄膜厚度以及磨粒/抛光垫大变形的条件下,通过量级估算的方法研究了分子量级的化学机械抛光(CMP)材料去除机理.理论分析和试验研究结果表明:磨粒压入芯片的深度、磨粒在芯片表面的划痕深度以及抛光后芯片表面的粗糙度都在分子量级或者更小.因此,分子量级的CMP材料去除机理得到了理论分析和试验数据较为广泛的证实.此外,随着磨粒直径的减小,CMP材料分子去除机理成为CMP机理研究中富有活力的新分支.该研究对于证实分子量级的CMP材料去除机理具有较大的意义,同时该结果对进一步CMP微观去除机理的研究具有理论科学意义.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赵永武		117	687	12.0	21.0
2	王永光		26	137	6.0	10.0