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摘要:
本文利用薄层电荷理论,建立了一个基于表面势的、物理的多晶硅薄膜晶体管(Polysilicon Thin-Film Transistors,poly-Si TFTs)的电流模型,且该模型适用于电路仿真.推导了 poly-Si TFTs 表面势的近似解法,该求解法非迭代的计算大大地提高了计算效率,且精确度高并得到实验验证.基于物理的迁移率方程考虑了晶界势垒高度,和由于声子散射与表面粗糙散射引起的迁移率退化.基于 Brews 的薄层电荷模型和上述非迭代计算表面势,本电流模型同时考虑了漏致势垒降低(DIBL)效应、kink 效应和沟道长度调制效应.对不同沟长的器件实验数据比较发现,提出的模型在很广的工作电压内与实验数据符合得非常好.同时本模型的所有方程都具有解析形式,电流方程光滑连续,适用于电路仿真器如 SPICE.
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文献信息
篇名 基于物理并适用于电路仿真的多晶硅薄膜晶体管薄层电荷模型
来源期刊 电子器件 学科 工学
关键词 多晶硅薄膜晶体管 表面势 薄层电荷模型
年,卷(期) 2008,(1) 所属期刊栏目 液晶和其它非自发光显显示器
研究方向 页码范围 117-120,123
页数 5页 分类号 TN321.5
字数 1117字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1005-9490.2008.01.028
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 郑学仁 华南理工大学微电子研究所 72 463 12.0 17.0
2 邓婉玲 华南理工大学微电子研究所 12 64 5.0 7.0
3 陈荣盛 华南理工大学微电子研究所 6 16 2.0 3.0
4 吴为敬 华南理工大学微电子研究所 24 74 4.0 7.0
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研究主题发展历程
节点文献
多晶硅薄膜晶体管
表面势
薄层电荷模型
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子器件
双月刊
1005-9490
32-1416/TN
大16开
南京市四牌楼2号
1978
chi
出版文献量(篇)
5460
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21
总被引数(次)
27643
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