退火温度对溅射铝膜结构与电性能的影响

• 作者: 何智兵 卢铁城 吴卫东 唐永建 程丙勋 许华
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 其他
• 关键词: Al膜 退火温度 应力 择优取向 反射率
• 年，卷（期）: 2008,（1）
• 所属期刊栏目: 粒子束技术
• 页码范围: 155-158
• 页数: 4页
• 分类号: O84.5
• 字数: 2024字
• 语种: 中文

摘要

采用直流磁控溅射方法成功地制备了Al膜,研究了退火温度对Al膜表面形貌、晶体结构、应力、择优取向及反射率的影响.研究表明:不同退火温度的薄膜晶粒排布致密而光滑,均方根粗糙度小.XRD测试表明:不同温度退火的铝膜均成多晶状态,晶体结构为面心立方,退火温度升高到400 ℃时,Al膜的应力最小达0.78 GPa,薄膜平均晶粒尺寸由18.3 nm增加到25.9 nm;随着退火温度的升高,(200)晶面择优取向特性变好.薄膜紫外-红外反射率随着退火温度的升高而增大.