退火温度对p型CuCrO 2薄膜结构与光学性能的影响

• 作者: 杨元政 谢致微 黄斯楷
• 来源期刊: 电子元件与材料
• 学科: 工学
• 关键词: CuCrO2 射频磁控溅射 退火温度 结构 光学性能 光学带隙宽度
• 年，卷（期）: 2015,（7）
• 所属期刊栏目: 研究与试制
• 页码范围: 38-41
• 页数: 4页
• 分类号: TB34
• 字数: 2730字
• 语种: 中文
• DOI: 10.14106/j.cnki.1001-2028.2015.07.010

摘要

采用射频磁控溅射法在石英玻璃衬底上制备CuCrO2薄膜，研究退火温度对CuCrO2薄膜结构和光学性能的影响。结果表明：未经退火处理的CuCrO 2薄膜为非晶态，颗粒较小，可见光透射率仅为56%。退火处理能够改善CuCrO2薄膜的结构和透光性能。随着退火温度的升高，薄膜结晶化程度逐渐增强，孔洞缺陷逐渐减少，薄膜逐渐变得平整致密，薄膜的透光性能得到改善，薄膜的吸收边向短波方向移动。当退火温度为800℃时，薄膜的性能最优，可见光透射率达到70%。光学带隙宽度为3.06 eV。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨元政	广东工业大学材料与能源学院	123	648	13.0	20.0
2	谢致微	广东工业大学材料与能源学院	6	147	3.0	6.0
3	黄斯楷	广东工业大学材料与能源学院	1	2	1.0	1.0