直流磁控溅射Cr（Al）N薄膜的结构与性能比较研究

• 作者: 余春燕 尹小定 张诤 王社斌
• 来源期刊: 材料导报：纳米与新材料专辑
• 学科: 工学
• 关键词: CrN膜层 CrAlN膜层 磁控溅射 粘结强度 磨损
• 年，卷（期）: 2008,（3）
• 页码范围: 359-362
• 页数: 4页
• 分类号: TG174.44

摘要

采用相同的基底偏压和靶基距离，以N2流量和靶材溅射功率为变量，以热作模具用钢H13和Si片为基底，用直流磁控溅射的方法沉积了CrN和CrAlN膜层。对这2种膜层用SEM测其表面形貌，用X射线衍射测其膜层结构，用M-400-Hl测其表面显微硬度，用WS-97划痕仪测其膜层／基体之间的结合强度，用UMT-2摩擦磨损试验机测其表面摩擦磨损性能。在分析溅射变量对2种膜层的影响趋势的同时，也分析了Al元素加入后所获得的CrAlN与CrN在结构、力学性能（硬度和膜／基粘结强度）和摩擦性能上的变化趋势。