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摘要:
为了获得波长长、均匀性好和发光效率高的量子点,采用分子束外延(MBE)技术和S-K应变自组装模式,在GaAS(100)衬底上研究生长了三种InAs量子点.采用MBE配备的RHEED确定了工艺参数:As压维持在1.33×10-5Pa;InAS量子点和In0.2Ga0.8As的生长温度为500℃;565℃生长50 nm GaAs覆盖层.生长了垂直耦合量子点(InAs 1.8 ML/GaAs 5 nm/InAs 1.8ML)、阱内量子点(In0.2Ga0.8As 5 nm/InAs2.4 ML/In0.2Ga0.8As 5 nm)和柱状岛量子点(InAs分别生长1.9、1.7、1.5 ML,停顿20 S后,生长间隔层GaAs 2 nm).测得对应的室温光致发光(PL)谱峰值波长分别为1.038、1.201、1.087μm,半峰宽为119.6、128.0、72.2 nm、相对发光强度为0.034、0.153、0.29.根据PL谱的峰位、半峰宽和相对发光强与量子点波长、均匀性和发光效率的对应关系,可知量子点波长有不同程度的增加、均匀性越来越好、发光效率显著增强.
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定位生长
内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 InAs/GaAs系列量子点研究
来源期刊 微纳电子技术 学科 物理学
关键词 自组装量子点 垂直耦合量子点 阱内量子点 柱状岛量子点 S-K模式 分子束外延 光致发光谱
年,卷(期) 2009,(7) 所属期刊栏目 纳米材料与结构
研究方向 页码范围 410-413
页数 4页 分类号 O471.1
字数 2435字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1671-4776.2009.07.005
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 武一宾 中国电子科技集团公司第十三研究所 19 39 4.0 4.0
2 商耀辉 中国电子科技集团公司第十三研究所 14 20 2.0 2.0
3 牛晨亮 中国电子科技集团公司第十三研究所 6 6 2.0 2.0
4 王建峰 中国电子科技集团公司第十三研究所 8 11 2.0 2.0
5 卜夏正 中国电子科技集团公司第十三研究所 4 3 1.0 1.0
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自组装量子点
垂直耦合量子点
阱内量子点
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分子束外延
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