原子光刻

• 作者: WANG Zhong-Ping 巨新
• 来源期刊: 物理
• 学科: 物理学
• 关键词: 原子光刻 原子光学 微纳米制造
• 年，卷（期）: 2009,（1）
• 所属期刊栏目: 评述
• 页码范围: 1-10
• 页数: 10页
• 分类号: O57
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0379-4148.2009.01.001

摘要

与光子和电子不间,原子的激发亚稳态具有方便操作的内能态结构,这使利用内能态的光学淬灭原理实现光刻技术成为现实.基于原子光学的中性原子束光刻技术是下一代光刻技术(the next generation lithography,NGL)的一种,它可分两种途径实现:激光驻波原子直沉积技术和亚稳态中性原子光刻技术.前者可以实现图案的纳米尺度特征、大面积平行沉积和高分辨率;后者结合有效的抗蚀剂,同样可以实现纳米图形制造,在基板上获得的尖锐边缘分辨率目前可达40 nm.两种途径的原理相差甚远,但最终获得的结果相似.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	巨新	南京大学物理系	2	3	1.0	1.0