射频溅射Si膜的微结构与光学性质研究

• 作者: 孙兆奇 宋学萍 王佩红
• 来源期刊: 安徽大学学报（自然科学版）
• 学科: 物理学
• 关键词: 射频磁控溅射 微结构 光学性质 原子力显微镜
• 年，卷（期）: 2009,（3）
• 页码范围: 65-68
• 页数: 4页
• 分类号: O484
• 字数: 2413字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-2162.2009.03.017

摘要

采用射频磁控溅射法,在300℃衬底温度下制备了不同厚度的Si薄膜,用X射线衍射仪、紫外-可见分光光度计和原子力显微镜(AFM)分别对薄膜的微结构、光学性质及表面形貌进行了测试分析.结果表明:不同时间下制备的Si膜均呈多晶状态;在中红外波段内出现了很强的Si-si吸收峰;在紫外可见光范围,随着膜厚的增加,Si膜的透过率减弱;AFM测出Si膜的颗粒平均直径在5.65～8.41 nm之间.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	宋学萍	安徽大学物理与材料科学学院	63	367	10.0	14.0
2	孙兆奇	安徽大学物理与材料科学学院	91	563	11.0	16.0
3	王佩红	安徽大学物理与材料科学学院	24	189	7.0	13.0