真空磁控溅射镀膜设备及工艺技术研究

• 作者: 杨晓东 程建平
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 镀膜工艺 设备
• 年，卷（期）: 2009,（11）
• 所属期刊栏目: 工艺与制造
• 页码范围: 27-31
• 页数: 5页
• 分类号: TP2
• 字数: 3278字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-4507.2009.11.006

摘要

磁控溅射技术在薄膜制备领域广泛应用,适合的工艺和制造技术对磁控溅射镀膜有着重要的影响.介绍了用于薄膜电路的生产工艺流程以及由此而决定的设备组成及控制技术,并重点叙述了薄膜制备的方法、参数选择、设备设计方法.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	程建平	中国电子科技集团公司第二研究所	6	56	4.0	6.0
2	杨晓东	中国电子科技集团公司第二研究所	7	38	2.0	6.0