磁控溅射薄膜生长全过程的计算机模拟研究

• 作者: 单莉英 孙琦 戴传玮 顾昌鑫
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 薄膜生长 多尺度模拟
• 年，卷（期）: 2009,（6）
• 所属期刊栏目: 学术论文
• 页码范围: 586-592
• 页数: 7页
• 分类号: TB43
• 字数: 4638字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2009.06.02

摘要

本文通过建立多尺度模型,结合模拟了磁控溅射中溅射原子的产生、溅射原子的碰撞传输、以及最终成膜的全过程,研究了基板温度、溅射速率、磁场分布和靶材-基板间距对薄膜生长过程与薄膜性能的影响.模拟结果显示,提高基板温度或降低溅射速率都会增加初期生长阶段薄膜的相对密度;磁场对靶的利用率有显著的影响,而对薄膜最终形貌的影响不大;增大靶材-基板间距会降低薄膜的粗糙度.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	顾昌鑫	复旦大学材料科学系	11	45	4.0	6.0
2	戴传玮	复旦大学材料科学系	1	17	1.0	1.0
3	孙琦	复旦大学材料科学系	7	71	4.0	7.0
4	单莉英	复旦大学材料科学系	6	36	3.0	6.0