不同厚度ZnO薄膜取向和应力的研究

• 作者: 徐联 李俊红 解述
• 来源期刊: 压电与声光
• 学科: 物理学
• 关键词: ZnO薄膜 膜厚 微观结构 应力分布
• 年，卷（期）: 2009,（2）
• 所属期刊栏目: 单晶、薄膜及其他功能材料
• 页码范围: 234-236
• 页数: 3页
• 分类号: O484.1
• 字数: 2406字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-2474.2009.02.029

摘要

采用直流磁控溅射技术制备了厚度为600～1 600 am的ZnO薄膜,利用XRD对薄膜的相结构进行了分析,利用薄膜应力分析仪对薄膜的应力进行了分析.结果表明:所有的薄膜都沿(002)方向高度择优.随着薄膜厚度的增加,ZnO薄膜的晶体质量得到提高,各种缺陷逐渐减小;ZnO薄膜的内应力为压应力;随着厚度的增加,ZnO薄膜的平均应力逐渐减小,并且应力分布趋于均匀.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李俊红	中国科学院声学研究所	30	72	5.0	8.0
2	徐联	中国科学院声学研究所	7	46	3.0	6.0
3	解述	中国科学院声学研究所	2	31	2.0	2.0