Si-N-O薄膜结构对薄膜血液相容性的影响

• 作者: 孙鸿 杨苹 王起义 郑楠 黄楠 黄菊
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 物理学
• 关键词: Si-N-O薄膜 血液相容性 磁控溅射
• 年，卷（期）: 2009,（5）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 843-845
• 页数: 3页
• 分类号: O484
• 字数: 1245字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-9731.2009.05.039

摘要

采用非平衡磁控溅射(UBMS450)法在(100)单晶硅表面制备Si-N-O薄膜.利用X射线光电子能谱(XPS)表征薄膜的成分结构;用血小板粘附试验表征薄膜结构对薄膜血液相容性的影响.研究结果表明,以无机Si为主的Si-N-O薄膜,其血液相容性较差;键合少量O的Si3N4薄膜,其血液相容性较佳.Si-N-O薄膜中N含量和O含量的变化,是导致薄膜结构变化的重要因素.