射频溅射功率对AZO薄膜结构及光电特性和热稳定性的影响

• 作者: 叶家聪 吕有明 曹培江 朱德亮 柳文军 贾芳 马晓翠
• 来源期刊: 发光学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 磁控溅射 AZO薄膜 射频功率 热稳定性
• 年，卷（期）: 2010,（2）
• 页码范围: 235-238
• 分类号: O472.3|O484.4
• 字数: 2368字
• 语种: 中文

摘要

采用射频磁控溅射法,在玻璃基片上制备了ZnO:Al (AZO)透明导电薄膜.用X射线衍射(XRD)仪、紫外-可见分光光度计、方块电阻测试仪和台阶仪对不同溅射功率下Al掺杂ZnO薄膜的结晶、光学、电学性能、沉积速率以及热稳定性进行了研究.研究结果表明:不同溅射功率下沉积的AZO薄膜具有六角纤锌矿结构,均呈c轴择优取向;(002)衍射峰强和薄膜的结晶度随溅射功率的提高逐渐增强;随溅射功率的提高,AZO薄膜的透射率有所下降,但在可见光(380～780 nm)范围内平均透射率仍＞80%;薄膜的方块电阻随溅射功率的增加逐渐减小;功率为160～200 W时,薄膜的热稳定性最好,升温前后方块电阻变化率为13%.