射频溅射CdTe薄膜结构特性分析

• 作者: 姬荣斌 孔令德 孔金丞 张鹏举 李竑志 李雄军 王善力 赵俊
• 来源期刊: 红外技术
• 学科: 工学
• 关键词: 射频磁控溅射 非晶CdTe薄膜 XRD 卢瑟福散射理论
• 年，卷（期）: 2007,（11）
• 所属期刊栏目: 材料与器件
• 页码范围: 627-629
• 页数: 3页
• 分类号: TN213
• 字数: 2446字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-8891.2007.11.002

摘要

采用射频磁控溅射技术在玻璃衬底上沉积了CdTe单层薄膜,实验表明:在室温条件下,通过调节溅射功率和溅射氩气压强,沉积的CdTe薄膜显示了一系列结构形态.研究了无CdTe薄膜沉积、非晶CdTe薄膜沉积、晶化CdTe薄膜沉积的生长条件,并采用卢瑟福散射理论解释了溅射CdTe薄膜生长机制的分子动力学过程.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	姬荣斌		50	200	7.0	10.0
2	李雄军		24	68	4.0	7.0
3	孔金丞		26	70	4.0	6.0
4	孔令德		12	37	4.0	4.0
5	赵俊		19	57	4.0	6.0
6	张鹏举		6	16	3.0	3.0
7	李竑志		4	18	4.0	4.0
8	王善力		5	16	3.0	4.0