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硅纳米晶体浮栅存储器件特性研究
硅纳米晶体浮栅存储器件特性研究
作者:
余吟丰
刘洋
史峥宇
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
离子注入
硅纳米晶体
耐擦写能力
数据保持能力
摘要:
通过硅(Si+)离子注入使硅纳米晶体存在于SiO2层中充当离散浮栅,制造出纳米晶体浮栅存储器件,测试器件的阈值电压变化(△Vth)、耐擦写能力和数据保持能力,得到该纳米晶体浮栅存储器件的存储特性.测试结果表明,该纳米晶体浮栅存储器件具有大的△Vth和较快的写/擦速度、非常好的耐擦写能力和很好的数据保持能力,具有应用于航空航天设备中的潜力.
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内容分析
文献信息
引文网络
相关学者/机构
相关基金
期刊文献
内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数
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文献信息
篇名
硅纳米晶体浮栅存储器件特性研究
来源期刊
航空科学技术
学科
航空航天
关键词
离子注入
硅纳米晶体
耐擦写能力
数据保持能力
年,卷(期)
2010,(5)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
38-40
页数
分类号
V2
字数
1509字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1007-5453.2010.05.012
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
刘洋
电子科技大学微电子与固体电子学院
46
174
7.0
11.0
2
史峥宇
电子科技大学微电子与固体电子学院
1
3
1.0
1.0
3
余吟丰
电子科技大学微电子与固体电子学院
1
3
1.0
1.0
传播情况
被引次数趋势
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引文网络
引文网络
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参考文献(2)
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2010(0)
参考文献(0)
二级参考文献(0)
引证文献(0)
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2012(3)
引证文献(3)
二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
离子注入
硅纳米晶体
耐擦写能力
数据保持能力
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
航空科学技术
主办单位:
中国航空研究院
出版周期:
月刊
ISSN:
1007-5453
CN:
11-3089/V
开本:
大16开
出版地:
北京东城区交道口南大街67号主楼202室
邮发代号:
2-691
创刊时间:
1989
语种:
chi
出版文献量(篇)
2815
总下载数(次)
15
总被引数(次)
8380
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