WO3薄膜退火温度与Li+致色性能关系的研究

• 作者: 于明泽 叶勤 邓检
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: WO3薄膜 反应磁控溅射 热处理 Li+致色
• 年，卷（期）: 2010,（2）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 44-47
• 页数: 4页
• 分类号: O484|TB34:TB43
• 字数: 2294字
• 语种: 中文

摘要

采用反应磁控溅射方法在ITO玻璃基片上制备WO3薄膜,并在不同温度下进行退火处理.用X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)、紫外-可见光分光光度计、电化学测试系统分析薄膜的微观结构及其Li+致色性能.结果表明,室温条件下沉积的原始态薄膜,及退火温度200℃以下内的薄膜,基本保持着非晶结构,具有良好的Li+致色性能,薄膜的透光调控能力达到61.42%;随着退火温度的升高,薄膜开始晶化,Li+致色性能急剧下降.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	叶勤	暨南大学物理学系	37	351	11.0	16.0
2	邓检	暨南大学物理学系	2	16	2.0	2.0
3	于明泽	暨南大学物理学系	2	16	2.0	2.0