溅射功率对NdFeB薄膜形貌的影响

• 作者: 张佳 张凯 张敏刚 赵毅朝
• 来源期刊: 山西冶金
• 学科: 工学
• 关键词: 直流磁控溅射 NdFeB薄膜 组织形貌
• 年，卷（期）: 2011,（2）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 7-8,29
• 分类号: TM271
• 字数: 894字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-1152.2011.02.003

摘要

采用直流磁控溅射方法在玻璃基片上制备出厚度约400nm的NdFeB薄膜,使用不同的溅射功率,利用扫描电镜分析不同溅射功率对薄膜微观组织的影响,并采用真空退火使之晶化,使用XRD衍射仪、扫描电镜分析晶化情况及组织变化,以期得到最佳的制备工艺.通过对30,50,100 W三组样品进行对比,得出以下结论:在30W功率下溅射,得到的样品具有最为均匀平整的组织形貌；随着溅射功率的加大,在试样非晶基体上,会出现弥散分布的富Fe相；而且随功率的增大,组织变得疏松,使得退火后仍难以得到较为良好的晶态组织.通过对100 W溅射样品退火后组织的观察,发现大功率溅射态试样的晶化会变得困难,同在550℃和15 min保温的退火条件下,100 W试样仍然存在非晶态的絮状组织,且组织不均,性能较差.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张敏刚		103	263	7.0	11.0
2	张佳		14	38	4.0	5.0
3	张凯		6	20	2.0	4.0
4	赵毅朝		3	4	1.0	2.0