基于MOCVD法制备的NiO薄膜结构与光学特性

• 作者: 史志峰 汤正新 王瑾 王辉 赵洋 赵龙
• 来源期刊: 河南科技大学学报（自然科学版）
• 学科: 物理学
• 关键词: NiO薄膜 金属有机化学气相沉积法 透射率
• 年，卷（期）: 2011,（3）
• 所属期刊栏目: 材料科学与工程
• 页码范围: 9-11
• 分类号: O484.4
• 字数: 1385字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-6871.2011.03.003

摘要

用金属有机化学气相沉积法在Si衬底上制备了NiO薄膜.分别采用X光电子能谱、电子显微镜、X射线衍射以及紫外-可见分光光度计对样品的结构和光学特性进行测试.X光电子能谱测试结果表明:薄膜中Ni元素以二价态存在,Ni与O比值接近1:1,表明制备的样品为NiO薄膜;电子显微镜和X射线衍射分析显示NiO薄膜呈现多晶态;紫外-可见分光光度计测试结果显示:NiO薄膜具有高透过率,400nm附近最高透过率为96%,通过线性外推法作图得到NiO薄膜的禁带宽度在3.7 eV左右.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王辉	吉林大学电子科学与工程学院	205	987	17.0	22.0
3	赵洋	吉林大学电子科学与工程学院	24	77	5.0	7.0
6	汤正新	河南科技大学物理与工程学院	50	129	6.0	8.0
7	王瑾	吉林大学电子科学与工程学院	15	94	6.0	9.0
8	赵龙	吉林大学电子科学与工程学院	13	20	3.0	3.0
9	史志峰	吉林大学电子科学与工程学院	1	4	1.0	1.0