温度对磁控溅射法制备的NiO薄膜的影响

• 作者: Kim I.S. Lee W.J. Shin B.C. 刘国侠 单福凯 张倩 耿广州
• 来源期刊: 青岛大学学报（自然科学版）
• 学科: 物理学
• 关键词: NiO 磁控溅射 镍空位 间隙氧
• 年，卷（期）: 2013,（2）
• 所属期刊栏目: 物理与化学
• 页码范围: 30-33
• 页数: 4页
• 分类号: O484.4
• 字数: 2333字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-1037.2013.05.07

摘要

采用射频磁控溅射法,以NiO靶材为溅射靶材,在不同温度玻璃衬底上制备了NiO薄膜.利用X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)、扫描电子显微镜(SEM)、分光光度计以及四探针测试系统研究了温度对薄膜结构、光学和电学性能的影响.结果分析表明所有NiO薄膜都具有(111)方向的择优取向,并且晶格常数随温度升高而减小.NiO薄膜的晶粒尺寸和粗糙度也随着温度的升高而增大.由于NiO薄膜中镍空位和间隙氧的减少,薄膜的透过率、禁带宽度以及电阻率都随温度的升高而增大.