室温下高速沉积AZO薄膜的研究

• 作者: 李伟民 郝会颖
• 来源期刊: 材料导报：纳米与新材料专辑
• 学科: 工学
• 关键词: 室温 压强 AZO 高速 磁控溅射
• 年，卷（期）: 2011,（2）
• 页码范围: 83-84
• 页数: 2页
• 分类号: TN304.21

摘要

在室温下，采用射频磁控溅射技术以较大的功率密度（7W／cm^2）沉积了一系列掺铝氧化锌（AZO）透明导电薄膜，探索了溅射压强对沉积速率及薄膜性能的影响。结果表明，当工作压强为2．OPa时，高速（67nm／min）沉积得到的薄膜的电阻率为2．63×10^-3Ω·cm，可见光平均透过率为83％，并且在薄膜表面有一定的织构。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郝会颖	中国地质大学材料科学与工程学院	22	29	4.0	4.0
2	李伟民	中国地质大学材料科学与工程学院	1	0	0.0	0.0