射频磁控溅射沉积AZO透明导电膜研究

• 作者: 林茂用 许春耀
• 来源期刊: 电子元件与材料
• 学科: 工学
• 关键词: 氧化锌铝 磁控溅射 灰关联-田口法 电阻率 透光率
• 年，卷（期）: 2013,（2）
• 所属期刊栏目: 研究与试制
• 页码范围: 9-12
• 页数: 4页
• 分类号: TB383
• 字数: 2860字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-2028.2013.02.003

摘要

采用射频磁控溅射技术在玻璃衬底上沉积了AZO透明导电薄膜,应用灰关联-田口实验法设计了L9(34)混合直交表,研究了制程工艺对薄膜沉积速率、电阻率、光穿透率、结晶性的影响.结果表明沉积薄膜的最佳制程参数为射频功率120 W、溅射压强2 Pa、靶材-基板距离8.5 cm、薄膜沉积时间90 min;实验显示最佳制程参数下所得透明导电薄膜沉积速率为8.04 nm/min,电阻率为2.6×10-3 Ω·cm,可见光穿透率维持在84％左右.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	林茂用	福建信息职业技术学院机电工程系	15	42	4.0	6.0