溅射气压对TiN薄膜的制备工艺及光学性能的影响

• 作者: 付淑英
• 来源期刊: 中国材料科技与设备
• 学科: 工学
• 关键词: 氮化钛薄膜 磁控溅射 溅射气压 反射率
• 年，卷（期）: 2011,（6）
• 页码范围: 40-42
• 页数: 3页
• 分类号: TB43

摘要

采用直流反应磁控溅射法，在Si（111）基底上制备氮化钛（TiNx）薄膜。研究了溅射沉积过程中腔体气压对TiNx薄膜结构及性能的影响。研究发现：在保持其它工艺参数不变的情况下，改变溅射气压，沉积的TiNx薄膜主要成分是立方相TiN，薄膜的结晶显示出明显的（200）择优取向。在腔体气压为0．5Pa时出现（200）衍射峰最强、择优取向最明显。随着腔体气压的增加，薄膜厚度变小，而衍射峰则呈减弱的趋势。在腔体气压为0．3Pa时，膜层致密均匀，没有大尺寸缺陷且光洁度好，薄膜的结晶度最好，表面也最光滑。在测试波长范围内对光的平均反射率最大（达85％），可满足光学薄膜质量方面的要求。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	付淑英	韩山师范学院物理与电子工程系	5	9	2.0	3.0