薄膜厚度对Al掺杂ZnO薄膜性能的影响

• 作者: 严钦云 崔丽玲 李雪勇
• 来源期刊: 广州化工
• 学科: 物理学
• 关键词: ZAO薄膜 薄膜厚度 电学性能 光学性能
• 年，卷（期）: 2011,（16）
• 所属期刊栏目: 科学实验
• 页码范围: 56-58
• 分类号: O484.5
• 字数: 2934字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-9677.2011.16.023

摘要

采用直流磁控溅射技术,以氧化锌铝陶瓷靶为靶材,在玻璃衬底上制备了ZnO：Al（ZAO）薄膜样品。在其他参数不变的情况下,由不同溅射时间得到了不同厚度的薄膜,研究了薄膜的结构性质、电学和光学性质随薄膜厚度的变化关系。实验结果表明：在薄膜厚度为500 nm时,ZAO薄膜具有最优化的光电性能,电阻率为1.68×10-3Ω.cm,可见光区平均透射率为90.3%。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李雪勇	湖南工业大学理学院	14	33	4.0	5.0
2	崔丽玲	湖南工业大学理学院	5	9	1.0	3.0
3	严钦云	湖南工业大学理学院	2	8	1.0	2.0